- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtements; galvanoplastie; jonction de pièces par électrolyse; appareillages à cet effet
- C25D 7/12 - Semi-conducteurs
Détention brevets de la classe C25D 7/12
Brevets de cette classe: 1026
Historique des publications depuis 10 ans
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87
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118
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110
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104
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125
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76
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79
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91
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94
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30
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Lam Research Corporation | 4775 |
105 |
| Ebara Corporation | 1951 |
85 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
84 |
| Novellus Systems, Inc. | 559 |
53 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
49 |
| BASF SE | 19740 |
39 |
| Atotech Deutschland GmbH | 586 |
34 |
| Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
33 |
| MacDermid Enthone Inc. | 237 |
27 |
| Tokyo Electron Limited | 11599 |
20 |
| International Business Machines Corporation | 60644 |
19 |
| Alchimer | 52 |
16 |
| ACM Research (Shanghai) Inc. | 205 |
15 |
| Centre de Recherche Public - Gabriel Lippmann | 22 |
12 |
| Texas Instruments Incorporated | 19376 |
11 |
| Dow Global Technologies LLC | 10147 |
10 |
| Aveni | 20 |
10 |
| Asmpt NEXX, Inc. | 35 |
9 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 6758 |
8 |
| Mitsubishi Materials Corporation | 2378 |
8 |
| Autres propriétaires | 379 |